| |
Teknik Veriler:
Plasma etcher Nano UHP
Kumanda dolabı:
G 580 mm, Y 650 mm, D 600 mm
Hücre:
Ø 240 mm, L 400 mm
(Opsiyonel: L 600 mm)
Hücre açıklığı Ø: 230 mm
İşletim maddeleri: Hücrenin ön ve arka panelinde
kuvars veya borosilikat-cam: Alüminyum
Hücre hacmi:
yakl. 18 litre
Gaz girişi:
iğneli valf üzerinden 2 gaz kanalı
Alternatör:
40kHz/300W, kademesiz
(Opsiyonel: 13,56 MHz veya 2,45 GHz)
Vakum pompası:
Leybold, D8B tipi (8 m³/h)
Parça girişi:
1 ad. ürün taşıyıcısı
Kumanda:
yarı otomatik, zamanlayıcı üzerinden işlem
süresi
Seçenekler/Aksesuarlar
|
|
Yarı otomatik kumandalı küçük sistem NANO
UHP: Temizleme, aktivasyon, yakma, kaplama |
