| |
Teknik Veriler:
Plasma etcher NANO
Kumanda dolabı:
G 580 mm, Y 650 mm, D 600 mm
Hücre:
Ø 267 mm, L 420 mm
Hücre hacmi:
yakl. 24 litre
Gaz
girişi:
iğneli valf üzerinden 2 gaz kanalı
Alternatör:
40kHz/300W, kademesiz
(Opsiyonel: 13,56 MHz veya 2,45 GHz)
Vakum pompası:
Leybold, D8B tipi (8 m³/h)
Parça
girişi:
1 ad. ürün taşıyıcısı
Kumanda:
yarı otomatik, zamanlayıcı üzerinden işlem süresi
Seçenekler/Aksesuarlar
|
|
Yarı otomatik kumandalı küçük
sistem NANO: Temizleme, aktivasyon, yakma, kaplama
Tam otomatik kumandalı küçük
sistem NANO: Temizleme, aktivasyon, yakma, kaplama |
