| |
Технические
характеристики:
Plasma etcher TETRA 150-LF-PC
Шкаф распределительного
устройства:
Ш 1000 mm, В 2.100 mm, Г 1000 mm
Камера:
Ш 400 mm, Г 625 mm, В 600 mm
Объем камеры:
~ 150 литров
Подвод газа:
max. 2 канала подвода газа с
электронной регулировкой (MFC)
Генератор:
40 кГц / 0 – 2.500 Вт
(опционально: 13.56 МГц или 2.45
ГГц)
Вакуумный насос:
Leybold, тип D65B (65 m³/h)
Комплектация:
До 16 ярусов(до 16 подложек для
обрабатываемых образцов)
(опционально: вращающийся
барабан)
Управление:
ПК управление (Windows)
ОПЦИИ /
ПРИНАДЛЕЖНОСТИ ДЛЯ
ПЛАЗМЕННЫХ
УСТАНОВОК
|
|
Plasma system TETRA-150-LF-PC для очистки,
активации и травления
поверхности в промышленном
производстве.
Шестиярусный блок загрузки
камеры и вращающийся барабан
для систем TETRA (plasma system) |