|
|
 |
| |
ПЛАЗМЕННЫЕ УСТАНОВКИ –
СТАНДАРТНЫЕ УСТАНОВКИ - STANDARD PLASMA SYSTEMS
|
| |
[ PLASMA SYSTEM FEMTO UHP - PLASMA ETCHER]
|
| |
|
| |
1,9
литра лабораторная установка plasma system FEMTO
UHP (Ultra High
Purity - Ультра-высокая
чистота) с полуавтоматическим
управлением применяется в
следующих областях:
- Малосерийное производство
- Аналитика (REM, TEM)
- Медицинская техника
- Стерилизация
- Научно-исследовательские
работы
- Археология
- Текстильное производство
- Полупроводниковые технологии
- Технологии обработки
искуcственных материалов
Плазменная система plasma system FEMTO UHP не
имеет стальной плазменной камеры,
что позволяет использовать
плазму, где содежание хрома,
никеля или железа в течение
плазменной обработки недопустимо.
Металлическая камера заменена на
стеклянную или кварцевую со
специальными фланцами.
|
| |
Брошюры (англ.) FEMTO (PDF 1007
KB) |
| |
Все Плазменные установки
(plasma system) могут комбинироваться в самых
различных вариантах исполнения.
Следующая информация освещает
наиболее часто используемые
варианты Плазменных
установок (plasma system).
|
| |
|
| |
Технические
характеристики:
Plasma etcher Femto UHP
(модель 6)
Шкаф
распределительного
устройства:
Ш 345 mm, В 220 mm, Г 420 mm
Камера:
Ø 95 mm, Г 270 mm, Входное окно 90 mm
Материалы:
Кварц или боросиликатное
стекло. Передняя и задняя
части камеры (фланцы)
выполнены из алюминия
Объем камеры:
~ 1,9 литра
Подвод газа:
1 регулятор расхода газа с
игольчатым клапаном
Генератор:
40 кГц / 100 Вт, бесступенчатый
Вакуумный насос:
Leybold, тип S1.5 (1.5m/h)
Комплектация:
Подложка для обрабатываемых
образцов– 1 шт.
Управление:
Ручное, время устанавливается
таймером
ОПЦИИ
/ ПРИНАДЛЕЖНОСТИ ДЛЯ
ПЛАЗМЕННЫХ
УСТАНОВОК
|
|
Plasma systemFEMTO UHP(модель 6):
Исследовательские работы,
очистка, активация, травление
(мелкосерийные процессы)
|
Технические
характеристики:
Plasma etcher Femto UHP
(модель 7)
Шкаф
распределительного
устройства:
Ш 560 mm, В 310 mm, Г 600 mm
Камера:
Ø 95 mm, Г 270 mm, Входное окно 90 mm
Материалы:
Кварц или боросиликатное
стекло. Передняя и задняя
части камеры (фланцы)
выполнены из алюминия
Объем камеры:
~ 1,9 литра
Подвод газа:
1 регулятор расхода газа с
игольчатым клапаном
Генератор:
40 кГц / 100 Вт, бесступенчатый
Вакуумный насос:
Leybold, тип S1.5 (1.5m/h)
Комплектация:
Подложка для обрабатываемых
образцов– 1 шт.
Управление:
Ручное, время устанавливается
таймером
ОПЦИИ
/ ПРИНАДЛЕЖНОСТИ ДЛЯ
ПЛАЗМЕННЫХ
УСТАНОВОК
|
|
Plasma system FEMTO UHP (модель 7):
Исследовательские работы,
очистка, активация, травление
(порт с дверцей на шарнирах)
Цена по запросу
|
|
| |
|
| |
Технические
характеристики:
Plasma etcher Femto UHP (модель 8)
Шкаф
распределительного
устройства:
Ш 562 mm, В 211 mm, Г 420 mm
Камера:
95 mm, Г 270 mm,
Входное окно 90 mm
Материалы:
Кварц или боросиликатное
стекло. Передняя и задняя
части камеры (фланцы)
выполнены из алюминия
Объем камеры:
~ 1,9 литра
Подвод газа:
2 регулятора расхода газа с
игольчатыми клапанами
Генератор:
40 кГц / 100 Вт, бесступенчатый
Вакуумный насос:
Leybold, тип S1.5 (1.5m/h)
Комплектация:
Подложка для обрабатываемых
образцов– 1 шт.
Управление:
Ручное, время устанавливается
таймером
Датчик давления:
Pirani
ОПЦИИ
/ ПРИНАДЛЕЖНОСТИ ДЛЯ
ПЛАЗМЕННЫХ
УСТАНОВОК
|
Plasma system FEMTO UHP (модель 8) :
Исследовательские работы,
очистка, активация, травление
(мелкосерийные процессы)
Цена по запросу
|
|
| |
|
| |
Технические
характеристики:
Plasma etcher Femto UHP (модель 9)
Шкаф
распределительного
устройства:
Ш 562 mm, В 460 mm, Г 550 mm
Камера:
95 mm, Г 270 mm,
Входное окно 90 mm
Материалы:
Кварц или боросиликатное
стекло. Передняя и задняя
части камеры (фланцы)
выполнены из алюминия
Объем камеры:
~ 1,9 литра
Подвод газа:
3 канала подвода газа с
электроной регулировкой (MFC)
Генератор:
40kHz/0-100 W
(или: 13,56 МГц, 2,45 ГГц)
Вакуумный насос:
Leybold, тип S1.5 (1.5m/h)
Комплектация:
Подложка для обрабатываемых
образцов– 1 шт.
Управление:
ПК управление работает с Windows
(Для более полной информации
относительно ПК управления
обратитесь на нашу страницу.)
ОПЦИИ
/ ПРИНАДЛЕЖНОСТИ ДЛЯ
ПЛАЗМЕННЫХ
УСТАНОВОК
|
Plasma system FEMTO-PC UHP (модель 9) :
Исследовательские работы,
очистка, активация, травление
(мелкосерийные процессы)
Цена по запросу |
|
| |
Технические
характеристики:
Plasma etcher Femto UHP (модель 10)
Шкаф
распределительного
устройства:
Ш 320 mm, В 500 mm, Г 420 mm
Камера:
Ш 95 mm, В 270 mm,
Opening 95 mm
Материалы:
Кварц или боросиликатное
стекло. Передняя и задняя
части камеры (фланцы)
выполнены из алюминия
Объем камеры:
~ 1,9 литра
Подвод газа:
2 регулятора расхода газа с
игольчатыми клапанами
Генератор:
40 кГц / 100 Вт, бесступенчатый
Вакуумный насос:
Leybold, тип S1.5 (1.5m/h)
Комплектация:
Подложка для обрабатываемых
образцов– 1 шт.
Управление:
Ручное, время устанавливается
таймером
Датчик давления:
Pirani
ОПЦИИ
/ ПРИНАДЛЕЖНОСТИ ДЛЯ
ПЛАЗМЕННЫХ
УСТАНОВОК
|
Plasma system FEMTO UHP (модель 10) :
Исследовательские работы,
очистка, активация, травление
(мелкосерийные процессы)
Цена по запросу
|
|
| |
Указанные цены не являются
окончательными.
Для получения дальнейшей
технической информации об этой
установке свяжитесь с нами. .
|
| |
|
| |
|
|
|
