| |
Dane techniczne:
Plasma etcher NANO
Szafa rozdzielcza:
szer. 580 mm, wys. 650 mm, gl. 600 mm
Komora:
O 267 mm, dl. 420 mm
Objetosc komory:
ok. 24 litrów
Doprowadzenie gazu:
2 kanaly gazowe przez zawór iglicowy
Generator:
40 kHz/300 W, regulacja bezstopniowa
(Opcja: 13,56 MHz lub 2,45 GHz)
Pompa prózniowa:
Leybold, Typ D8B (8 m³/h)
Uchwyt obrabianych elementów:
1 nosnik produktów
Sterowanie:
pólautomatyczne, sterowanie czasem procesu za pomoca zegara
Opcje/osprzet
|
|
Male urzadzenie plasma system NANO ze sterowaniem pólautomatycznym: czyszczenie, aktywowanie, wytrawianie, powlekanie
Male urzadzenie plasma system NANO z calkowicie automatycznym sterowaniem: czyszczenie, aktywowanie, wytrawianie, powlekanie |
