UZYWANE W FIZYCE PLAZMY :: CVD :: diener electronic

	SŁOWNICTWO
	[ UZYWANE W FIZYCE PLAZMY ]

	CVD Chemical Vapour Deposition, metoda powlekania, w której powłoka jest osadzana przez rozkład związku chemicznego w postaci gazowej (np. osadzanie metalu przez rozkład chemiczny lotnego związku tego metalu). Procesy CVD mogą być przez zastosowanie plazmy wspomagane (PECVD = Plasma Enhanced CVD) lub wyzwalane (PACVD = Plasma Activated CVD). Znaczące zastosowania procesów plazmowych CVD to amorficzne powłoki węglowe i krzemowe oraz powłoki z azotku tytanu, węglika tytanu lub azotku krzemu.

	home \| Tecnika plazmowa \| Słownictwo \| FAQ \| Urządzenia Plazmowe \| Leasing maszyn \| Obróbka uslugowa \| Doradztwo/Serwis \| Przedstawicielstwa\| Referencje \| Pliki do pobrania \| Targi \| Kontakt \| Dojazd \| O nas \| Stopka redakcyjna

	© 2009 Diener electronic GmbH + Co. KG Webdesign Heindl Internet AG

SŁOWNICTWO