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[ CVD ]
Chemical Vapour Deposition, processo di rivestimento nel quale lo strato viene depositato attraverso la rottura di un legame gassoso (ad es. deposito di un metallo per mezzo di rottura termica di un legame volatile del metallo). I processi CVD possono essere agevolati con il plasma (PECVD = Plasma Enhanced CVD) oppure attivati (PACVD = Plasma Activated CVD). Applicazioni significative dei processi al plasma CVD sono strati amorfi di carbonio e silicio nonché strati di nitrito di titanio, carburo di titanio o nitrito di silicio.
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