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Données techniques:
Plasma etcher PICO UHP
Dimensions du système:
L 550 mm, H 330 mm, P 500 mm
Dimensions de la chambre:
Ø 130 mm, P 300 mm
Matière de la chambre:
quartz ou borosilicate,
arrière de la chambre aluminium
Volume de la chambre:
4 litres
Alimentation en gaz:
2 canaux de gaz réglables par vanne à aiguille
générateur:
40 KHz, réglable de 1 à 200 W
(en option 13.56 MHz ou 2.45 GHz)
Pompe:
Leybold Trivac D2.5B (2.5 m3/h)
Support de pièce:
1 plateau
Contrôle:
Contrôle semi automatique du système, la durée du
traitement est contrôlée par une horloge
programmable.
Options /
accessoires
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Plasma system PICO UHP: Développement de procédé, nettoyage,
activation, gravure (optique, technologie laser,
…)
Plasma in PICO UHP.
PRIX départ usine, non emballé :
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