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[ PACVD ]
Acronyme pour “Plasma Assisted Chemical Vapour Deposition” Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma. Méthode de revêtement employée par exemple pour le dépôt de carbures, des nitrures. Cette méthode permet de travailler à des températures significativement inférieures (400-500°C) à celle de dépôt en phase chimique sans plasma (1000°C).
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