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Datos Técnicos:
Plasma etcher NANO
Gabinete Eléctrico:
Ancho 580 mm, Altura 650 mm, Fondo 600 mm
Cámara de Trabajo:
Ø 267 mm, L 420 mm
Volúmen de la Cámara:
Aprox. 24 litros
Alimentación del gas:
2 canales de gas con válvulas accionadas por aguja
Generador:
"40 kHz / 0 - 300 W
(opcional 13,56 MHz ó 2,45 GHz)"
Bomba de Vacío:
Leybold, Typ D8B (8 m³/h)
Bastidor para piezas:
1 Portador de piezas
Sistema de Control:
Semi-automático, duración del proceso por temporizador
Accesorios
y Opcionales
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Plasma system Pequeño NANO con sistema de control
semi-automático: limpieza, activación, mordentado,
revestimientos
Plasma system Pequeño NANO con sistema de control
automático: limpieza, activación, mordentado,
revestimientos |
