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PLASMAANLAGEN - STANDARDANLAGEN - PLASMA SYSTEM NANO

[ PLASMA CLEANER - PLASMA ETCHER - PLASMA ASHER - PLASMA ACTIVATION ]



Die NANO Plasmasysteme können in verschiedenen Varianten wie in einem Baukastensystem kombiniert werden. Im folgenden erhalten Sie einen Überblick über die gängigsten Optionen in Verbindung mit den NANO Plasmasystemen.

Rufen Sie uns an, wir beraten Sie gerne. Tel.: +49 (0) 7458 - 99931 - 0

Prospekt NANO (PDF 1068 KB)


Grundausstattung

- Die Gehäuse variieren je nach Komponenten / Optionen
- Kammervolumen: je nach Version 18 - 36 Liter
- Spannungsversorgung: 230 V für Tischgerät, 400 V / 3 Phasen für
  Standgerät

Gaszufuhr

- Nadelventile
- Mass-Flow-Controller (MFCs)

Vakuumkammern

- Edelstahl
    rund mit Deckel
    (ca. Ø 267 mm, L 420 mm oder L 600 mm)
    rechteckig, Tür mit Scharnier
    (ca. B 240 x H 240 mm x T 420 mm oder 600 mm)

- Aluminium
    rund mit Deckel oder Tür mit Scharnier
    (ca. Ø 240 mm, L 400 mm oder L 600 mm)

- Quarzglas (UHP)
    rund mit Deckel oder Tür mit Scharnier
    (ca. Ø 240 mm, L 400 mm oder L 600 mm)

- Borosilikatglas (UHP)
    rund mit Deckel oder Tür mit Scharnier
    (ca. Ø 240 mm, L 400 mm oder L 600 mm)

Beladung

  Warenträger (Option: wassergekühlt), Quarzglasboote,
  Pulverdrehtrommel, Schüttgutdrehtrommel, Aluminiumblech,
  Edelstahlblech, Borosilikatglas, Quarzglas

Elektroden

- Ein- oder Mehretagen
- RIE

Steuerung

- Halbautomatik
- PCCE-Steuerung (Microsoft Windows CE)
- PC-Steuerung (Microsoft Windows XPE)

Druckmessung

- Pirani
- Baratron (für Korrosivgas Version)

Timer

- Digital

Generatoren

Frequenzen:      40 kHz: Leistung 0 - 300 W; 0 - 1000 W
                     13,56 MHz: Leistung 0 - 100 W; 0 - 300 W
                       2,45 GHz: Leistung 0 - 600 W

Alle Generatoren sind stufenlos regelbar von 0 - 100 %

Vakuumpumpen

- in verschiedenen Größen und von verschiedenen Herstellern
(nach Bedarf mit Aktivkohlefilter)


 

Hier sehen Sie einige Beispiele unserer
NANO Gehäuse



Plasmaanlage NANO Variante 1, Plasma cleaner, Plasma asher, Plasma etcher, Plasma activation, Femtoscience
 NANO Beispiel Variante 1

Plasmasystem NANO Variante 2 für Prozessentwicklung, Reinigung, Aktivierung, Ätzung in Kleinserie - Diener Plasmaanlagen, Plasma cleaner
 NANO Beispiel Variante 2

Plasmaanlage NANO Variante 3, Plasma cleaner, Plasma asher, Plasma etcher, Plasma activation
 NANO Beispiel Variante 3

Plasmasystem NANO Variante 4 für Prozessentwicklung, Reinigung, Aktivierung, Ätzung in Kleinserie - Diener Plasmaanlagen, Femtoscience
 NANO Beispiel Variante 4

Plasmasystem NANO Variante 5, Plasma cleaner, Plasma asher, Plasma etcher, Plasma activation
 NANO Beispiel Variante 5

Plasmaanlage NANO Variante 6, Plasmacleaner, Plasmaasher, Plasmaetcher, Plasmaactivation
 NANO Beispiel Variante F



Bitte setzen Sie sich wegen technischer Beratung für diese Anlagen mit uns in Verbindung.

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