| |
Technické údaje:
rozvaděč:
W 580 mm, H 650 mm, D 500 mm
komora:
Ø 267 mm, L 420 mm
objem komory:
přibližně 24 litrys
zdroj plynu:
two plynové kanály přes jehlový ventil
generátor:
40kHz/300 W, neomezeně variabilní
(volitelně: 13.56 MHz or 2.45 GHz)
vakuum pump:
Leybold, Typ D8B (8 m³/h)
trays:
1 ks nosič výrobků
řízení:
poloautomatické řízení, procesní čas nastavován časovačem
volitelné položky / příslušenství
|
|
PLASMA ETCHER NANO with s poloautomatickým řízením:
Čištění, aktivace, leptání, nanášení povlaků
PLASMA ETCHER NANO s plně automatickým řízením:
Čištění, aktivace, leptání, nanášení povlaků |
