diener electronic  |  PLAZMOVÁ TECHNOLOGIE ÚPRAVY POVRCHŮ Plasma Plasma systems Surface-Technology
 
german english spanish english turkish italian french
russian polish czech chinese japanese taiwanese korean
home
  Plazmová technika
  Slovník výrazů
  FAQ
  Plazmové systémy
  Poradenství / Servis
  Odkazy / zastoupení
  Reference
  Veletrhy
  Kontaktujte nás
  Kde nás najdete
  O nás
  Ke stažení
   
 

SLOVNÍK VÝRAZŮ

 

[ VÝRAZY POUZÍVANÉ V PLAZMOVÉ FYZICE ]

   
 Tetrafluormetan 
Často pouzívaný jako procesní plyn v plazmových procesech, zvlástě v procesech leptání. Tetrafluormetan ( CF4, označovaný také Freon 14 ) je za bězných podmínek zcela inertní, ale tvoří volné atomy fluoru a CF2 a CF3 radikály, kdyz je pouzit jako plazmový procesní plyn. Tyto radikály vyvíjejí velmi silný leptací účinek, např. na oxidu křemičitém. Směs CF4 a kyslíku leptá pětkrát rychleji nez čistý kyslík.

  home | Plazmová technika | Slovník výrazů | FAQ | Plazmové systémy | Systémy k pronájmu | Placené sluzby | Poradenství / Servis | Odkazy / zastoupení | Reference | Ke stazení | Veletrhy | Kontaktujte nás | Kde nás najdete | O nás | Komentář
  © 2009 Diener electronic GmbH + Co. KG    Webdesign Heindl Internet AG